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InGaN基全彩化Micro LED再獲突破!紅光芯片效率顯著提升

今年5月,阿卜杜拉國王科學(xué)技術(shù)大學(xué)(KAUST)宣布開發(fā)出一款新型InGaN基紅光Micro LED芯片,外量子效率(EQE)有所提升,對實現(xiàn)基于單一半導(dǎo)體材料的全彩化Micro LED顯示器有重要的推動作用。在此基礎(chǔ)上,KAUST近期又取得了新的突破。

據(jù)外媒報道,KAUST開發(fā)了可在整個可見光光譜范圍內(nèi)高效發(fā)光的Micro LED(μLEDs)芯片,實現(xiàn)Micro LED的全彩化。目前,KAUST團隊的相關(guān)論文已發(fā)表在《光子學(xué)研究》(Photonics Research)期刊上。

據(jù)介紹,氮合金是一種半導(dǎo)體材料,通過正確的化學(xué)混合,能夠發(fā)出RGB三種顏色的光,有助于Micro LED實現(xiàn)RGB全彩化顯示。然而,當(dāng)?shù)镄酒某叽缈s小至微米級時,發(fā)光效率也會隨著變?nèi)酢?/p>

KAUST研究團隊對此作出詳細(xì)的解釋:縮小芯片尺寸面臨的主要障礙是在生產(chǎn)過程中LED結(jié)構(gòu)的側(cè)壁會被損壞,而缺陷的產(chǎn)生則會導(dǎo)致漏電,進而影響芯片發(fā)光。并且,隨著尺寸的微縮,這種現(xiàn)象會更加明顯,因此LED芯片尺寸局限在400μm×400μm。

不過,KAUST團隊在這個難題上實現(xiàn)了突破,開發(fā)出高亮度InGaN紅光Micro LED芯片,尺寸為17μm×17μm。

圖片來源:KAUST

據(jù)悉,研究團隊采用完全校準(zhǔn)的原子沉積技術(shù)研發(fā)出10×10的紅光Micro LED陣列,并通過化學(xué)處理消除了對LED芯片結(jié)構(gòu)側(cè)壁的損傷。通過原子級觀察(需要專業(yè)工具及樣品準(zhǔn)備),研究團隊確認(rèn),側(cè)壁在經(jīng)過化學(xué)處理后具備高結(jié)晶性。

根據(jù)研究團隊觀察,芯片表面每2平方毫米區(qū)域的輸出功率高達1.76mW,而以往的產(chǎn)品每2平方毫米區(qū)域的輸出功率僅1mW,相比之下,新產(chǎn)品的輸出功率顯著提升,意味著外量子發(fā)光效率明顯提升。隨后,研究團隊將紅光Micro LED芯片與InGaN藍(lán)綠光Micro LED芯片結(jié)合,以制造出廣色域Micro LED器件 。

KAUST認(rèn)為,憑借高亮度、快速響應(yīng)速度、廣色域、能耗低等優(yōu)點,InGaN Micro LED將是下一代Micro LED頭戴式監(jiān)視器、移動手機、電視等設(shè)備的理想方案。下一步,KAUST團隊將進一步提升Micro LED的效率,并將尺寸縮小至10μm以下。

值得注意的是,在實現(xiàn)InGaN基Micro LED全彩化的道路上,晶能光電也取得了突破。

據(jù)LEDinside了解,晶能光電開發(fā)了硅襯底紅光Micro LED芯片,并成功制備了紅、綠、藍(lán)三基色硅襯底GaN基Micro LED陣列。不過,晶能也坦言,目前其紅光Micro LED芯片的外量子效率的測試手段還需要進一步優(yōu)化。

在更小尺寸Micro LED芯片技術(shù)上,今年3月,美國加州大學(xué)圣塔芭芭拉分校(UCSB)也已宣布首次展示了尺寸小于10μm的InGaN基紅光Micro LED芯片,不過同樣面臨外量子發(fā)光效率低的問題。據(jù)悉,這款芯片在晶圓測量上測出的EQE僅為0.2%。

UCSB指出,Micro LED的外量子發(fā)光效率至少要達到2-5%,才能夠滿足終端顯示器的要求。UCSB的下一步計劃是改善材料質(zhì)量,優(yōu)化生產(chǎn)步驟,以實現(xiàn)外量子效率的提升。

由此可見,在推動Micro LED實現(xiàn)全彩化和商用化上,各研究團隊仍有較長的一段路要走。但可喜的是,相比往年,今年各方在Micro LED技術(shù)上取得的進展均對Micro LED產(chǎn)業(yè)具有關(guān)鍵性的推動作用,終端產(chǎn)品也逐步浮出水面,意味著廠商和消費者離Micro LED又近了一點。(文:LEDinside Janice)

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