三星電子在極紫外（EUV）曝光技術(shù)取得重大進(jìn)展，韓媒BusinessKorea報(bào)導(dǎo)，三星電子DS部門(mén)研究員Kang Young-seok表示，三星使用的EUV光罩護(hù)膜（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已達(dá)90%，計(jì)劃再提高至94-96%。

EUV光罩護(hù)膜（Pellicle）是光罩上的薄膜，保護(hù)光罩免于微塵或揮發(fā)性氣體的污染，使EUV順利傳輸。光罩護(hù)膜也是EUV曝光時(shí)的關(guān)鍵零件，目的是增加芯片生產(chǎn)良率，減少光罩使用時(shí)的清潔和檢驗(yàn)。

三星今年初聲稱(chēng)已開(kāi)發(fā)出透光率達(dá)88%的EUV光罩護(hù)膜，且這款產(chǎn)品已經(jīng)可以量產(chǎn)，而Kang表示三星EUV護(hù)膜透光率再度增加，達(dá)到90%。其中，透光率90%的意思是只有90%進(jìn)入薄膜的光線(xiàn)能到達(dá)光罩，這可能會(huì)影響電路圖案的精度。這比更常見(jiàn)的氟化氬（ArF）制程中使用的薄膜透光率（99.3%）還低。

當(dāng)EUV光罩護(hù)膜在250瓦光源下操作時(shí)，每平方公分會(huì)產(chǎn)生的5瓦熱量，導(dǎo)致溫度高達(dá)680℃以上，因此除了降低光源衰退外，還必須解決光罩護(hù)膜在EUV過(guò)程中遇到的翹曲或斷裂等散熱問(wèn)題。

據(jù)報(bào)導(dǎo)，三星已主要客戶(hù)的部分先進(jìn)EUV代工生產(chǎn)線(xiàn)上導(dǎo)入EUV光罩護(hù)膜。雖然三星也在DRAM生產(chǎn)線(xiàn)中采用EUV制程，但考慮到生產(chǎn)率和成本，該公司認(rèn)為即使沒(méi)有光罩護(hù)膜也可以進(jìn)行存儲(chǔ)器量產(chǎn)。

EUV光罩護(hù)膜目前有艾司摩爾（ASML）、三井化學(xué)（Mitsui Chemicals）、信越化學(xué)、S&STech、FST等業(yè)者跨足，但據(jù)Kang透露，三星并沒(méi)有使用韓國(guó)國(guó)內(nèi)供應(yīng)商提供的EUV光罩護(hù)膜，而是與日本三井化學(xué)合作，為唯一供應(yīng)商。

圖片來(lái)源：ASML

雖然FST和S&STech等韓國(guó)公司正積極開(kāi)發(fā)EUV光罩護(hù)膜，但還沒(méi)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。相比之下，臺(tái)積電早在2019年開(kāi)始使用自行開(kāi)發(fā)的光罩護(hù)膜，并已在7奈米以下制程的生產(chǎn)線(xiàn)使用。（來(lái)源：科技新報(bào)）

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